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portada Coupled Diffusion of Impurity Atoms and Point Defects in Silicon Crystals (en Inglés)
Formato
Libro Físico
Idioma
Inglés
N° páginas
404
Encuadernación
Tapa Dura
Dimensiones
22.9 x 15.2 x 2.4 cm
Peso
0.71 kg.
ISBN13
9781786347152

Coupled Diffusion of Impurity Atoms and Point Defects in Silicon Crystals (en Inglés)

Oleg Velichko (Autor) · World Scientific Publishing Europe Ltd · Tapa Dura

Coupled Diffusion of Impurity Atoms and Point Defects in Silicon Crystals (en Inglés) - Velichko, Oleg

Libro Nuevo

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  • Estado: Nuevo
Origen: Estados Unidos (Costos de importación incluídos en el precio)
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Reseña del libro "Coupled Diffusion of Impurity Atoms and Point Defects in Silicon Crystals (en Inglés)"

This work presents a comprehensive theory describing atomic diffusion in silicon crystals under strong nonequilibrium conditions caused by ion implantation and interaction with the surface or other interfaces. A set of generalized equations that describe diffusion of impurity atoms and point defects are presented in a form suitable for solving numerically. Based on this theory, partial diffusion models are constructed, and the simulation of many doping processes used in microelectronics is carried out.Coupled Diffusion of Impurity Atoms and Point Defects in Silicon Crystals is a useful text for researchers, engineers, and advanced students in semiconductor physics, microelectronics, and nanoelectronics. It helps readers acquire a deep understanding of the physics of diffusion and demonstrates the practical application of the theoretical ideas formulated to find cheaper solutions in the course of manufacturing semiconductor devices and integrated microcircuits.

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El libro está escrito en Inglés.
La encuadernación de esta edición es Tapa Dura.

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